芯片制造设备

瑞银：中国未来十年难以追赶ASML极紫外光微影技术

瑞银集团分析师发布报告指出，中国半导体制造能力在未来10年内仍难以赶上荷兰ASML的尖端极紫外光(EUV)微影技术。根据专利活动判断，中国目前的技术成熟度约相当于ASML 2004年的发展阶段。